KR EN

제품소개

파운드리서비스

ᆞ당사는 고객맞춤형 공정컨설팅, 설계, 공정
파운드리 서비스를 통해, 최적의 솔루션을 제공합니다.
ᆞ고객 요구 일정에 맞춰 최상의 결과를 제공합니다.

파운드리 서비스

Epitaxy 성막, Fab, 후공정 및 분석 서비스 제공(4인치) : 일부 6~8인치 공정 가능
Epitaxy 성막 Wafer 세정 Wafer 화학처리 Photo 공정 증착공정 열처리 식각공정 후공정 측정 분석
GaN-on-Sapphire 유기세정 산처리 PR코팅 SiO₂(PECVD) RTA GaN Grinding Probe PL
GaN-on-Si 산세정 염기처리 노광 ITO(RPO) SiO₂ Lapping Sort XRD
GaN-on-SiC 유기처리 현상 Metal(E-beam) Poliching SEM
AFM
a-step

보유 설비 및 인프라

MOCVD 장비 사용 안내
ID Model Capacity Application
MOCVD#1 Veeco 14x4인치, 5x6인치, 3x8인치 GaN Based LED, Power device
MOCVD#2 Veeco 14x4인치, 5x6인치, 3x8인치 GaN Based LED, Power device
MOCVD#3 Aixtron 5x4인치 GaN/AIN Based LED, Power device (Max Temp. 1400℃)
MOCVD#4 Aixtron 5x8인치 GaN Based LED, Power device
PL 4인치, 6인치, 8인치
XRD 4인치, 6인치, 8인치
AFM 4인치
Fab 분야
Machine Wafer Size Note
Wet Station (산) 4인치 H₂SO₄, H₂O₂, HNO₃, HCl, BOE
Auto Wet Station (유기) 4인치 아세톤, IPA, PR stripper
Spin Dryer#1,2,3 4인치
Track#1,2 4인치 PR Coating (Positive, Negative)
Track#3 4인치 PR Develop
Stepper 4인치 Expose
Aligner 4인치 Expose
PECVD#1,2 4인치 SiO₂ Deposition
O₂ Asher 4인치
ICP-RIE #1,2,3 2인치, 4인치, 6인치, 8인치 GaN, SiO₂ Dry Etch
RPD 2인치, 4인치, 6인치, 8인치 ITO Deposition
E-beam#1,2,3 2인치, 4인치, 6인치, 8인치 Cr, Ni, Ti, Al, Au, AuSn, SAC Deposition
RTA#1,2,3 4인치 300~700℃ Anneal
Grinder Machine 4인치
Lapping Machine 4인치
Polishing Machine 4인치
Wafer Breaker#1,2 4인치
Laser scriber#1,2 4인치
Wafer Prober#1,2 4인치
Chip Prober#1,2 4인치
Chip Soter#1,2 4인치
SEM -
Alpha Step 2인치, 4인치, 6인치, 8인치
Filmetrics 2인치, 4인치, 6인치, 8인치

제품 문의 및 기술 지원이 필요하시다면
온라인 문의를 통해 연락 주세요.

온라인문의